专利名称：使用超像素形式的倾斜镜面的光构图装置专利类型：发明专利
发明人：N·巴巴-阿李,A·J·B·布利克,K·Z·特卢斯特申请号：CN200610077147.6申请日：20060427公开号：CN1869820A公开日：20061129
摘要：一种光构图系统包括提供具有一定波长(λ)的辐射束的照明系统。反射像素阵列构图该束，其中阵列包括像素，该像素至少具有逻辑耦合到第二倾斜镜面的第一倾斜镜面。在实施例中，第一和第二倾斜镜面(i)基本上彼此相邻；且(ii)在高度上彼此偏移第一镜面位移。包括将构图束投射到目标上的投影系统。在可选实施例中，反射像素阵列包括具有彼此逻辑耦合的第一到第四倾斜镜面的像素。第一到第四倾斜镜面(i)分别在高度上与参考平面偏移第一到第四镜面位移，且(ii)分别顺时针排列在基本正方形的图形中。
申请人：ASML控股有限公司,ASML荷兰有限公司
地址：荷兰费尔德霍芬
国籍：NL
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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